產品詳情

Agar 離子濺射儀是日常鍍膜應用的理想選擇。Agar 離子濺射儀能夠提供非常精細的濺射效果，并且經濟實用操作簡便，抽真空速度快對樣品無損傷。Agar 離子濺射儀可以提供單獨的真空泵或者真空連接裝置供額外的一個真空泵使用。 因此該真空泵可以和額外的蒸碳鍍膜儀一起使用。另外，雙真空泵系統也可以使兩臺 Agar 公司的鍍膜儀共用一個真空泵。

濺射儀腔體

120X120mm 的大腔體可以滿足大多數可選擇的“O”圈以及多種樣品夾的使用。而且 可以選擇膜厚監測儀作為選項。標準的樣品腔可同時放置 6 個樣品。樣品座的高度調節范圍為 25-80mm。12 個樣品的 大樣品座作為備選件，該配件在膜厚監測儀中是標準配置。

濺射頭

高位的冷磁濺射頭包含一個 57mm 的金靶。其他靶材也可方便的切換，比如 Pt，Pd等。當樣品室打開的時候真空保護裝置會自動啟動。

控制系統—自動

整個的操作過程包含抽真空、清洗、時間設置等都是在微機控制下自動完成，操作者 只需要設置好濺射的電流以及鍍膜時間即可。手動模式一般用于設定操作所用的參數。

真空泵系統

集成式的真空系統設計為安裝在鍍膜系統的背部，并且固定在一個減震平臺上。 真空泵以 KF16 用一節短的不銹鋼與主機連接。只需35秒即可達到 0.1mb 的真空度。 選裝泵可作為備選項方便操作者選擇額外的泵系統。

技術規格

腔體尺寸：                      直徑120mm，高120mm   

SE 的腔體尺寸：              直徑150mm，高165mm

靶材：                            金靶  Au/Pd 或 Pt 可選

樣品座：                         12 SEM 樣品座

濺射電源：                      基于微處理器的鉑靶（57mm x 0.1mm）

                                      安全聯鎖金/鈀靶（57mm x 0.1mm）

                                      最大電流80mA

濺射頭：                         低壓平面磁控管型快變靶繞暗空間屏蔽

模擬測量：                     真空-0.001mb

                                      電流0-50mA

尺寸：                            420mm 寬 x 295mm 高

重量：                            10Kgs

膜厚控制：                      使用終止膜厚度 

                                      膜厚控制監視器（可選）

控制方法：                      氣體吹掃和泄漏功能的自動操作和自動工藝排序

                                     全手動操作

                                     帶暫停的數字計時器（0-300秒）

                                     自動排氣

泵系統：

旋轉泵：                       高速, 2級

速度：                          2.0/2.4 cu.m/hr (50/60Hz)

             0.1mb 是 25/30秒

臺式系統：                   真空泵安裝在與不銹鋼波紋管連接系統兼容的防振臺上

尺寸：                          330mm 寬 x 215mm 高

重量 ：                         14Kgs

安裝要求

電壓：                         100 - 120 or 200 - 240 VAC, 50/60Hz

功率：                         最大175伏安

氬氣：                         99.9%純氬

                                   壓力，調節7-8 psi（0.5-0.6 bar）軟管連接，6.0 mm（1/4“）

產品外觀